大川　哲男

Society of Manufacturing Engineers 、精密工学会、砥粒加工学会、科学技術と経済の会

論文リスト

• GaAsウエハ鏡面研磨加工の基礎検討　砥粒加工学会誌 47 No2(2003) pp.30-34.（共著）
• Improvement of Pad Life in Mirror Polishing for GaAs Wafers　JSME International Journal Series C,vol. 47 No.1(2004) pp.98-104.（共著）
• 研磨レート安定化によるCMP加工精度向上に関する研究　新潟大学大学院自然科学研究科，博士論文（2005年3月）
• ウエハ研磨加工における研磨レート低下挙動の解明　精密工学会誌 72 No.4(2006) pp.517-522.（共著）
• 経営安定化を目的とした製造不良の改善、新潟大学大学院技術経営科修士論文(2019年3月)（共著）

書籍

• メカノケミカルポリシング（ＣＭＰ）の基礎と実例（ポリシングパッド編）グローバルネット（1995年12月）（共著）
• CMPによる層間膜の平坦化、砥粒加工学会誌 vol. 42 No11(1998) pp.9-12.（単著）

学会発表

• 研磨パッドの表面状態がCMPの研磨能率に及ぼす影響、1998年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集(1998) p.201.　共同（主担当）会議名：1998年度精密工学会春季大会学術講演会 開催場所：明治大学，川崎市
• 研磨圧力分布の補正によるCMPの研磨量均一性の改善、2000年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集(2000) p.153.　共同（主担当） 会議名：2000年度精密工学会春季大会学術講演会 開催場所：東京電機大学，東京都千代田区
• 薄膜磁気ヘッドのCMPの検討、2001年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集(2001) p.500.　共同（主担当）会議名：2001年度精密工学会春季大会学術講演会開催場所：東京都立大学，八王子市
• GaAsウエハの鏡面研磨加工の基礎検討、2001年度砥粒加工学会学術講演会講演論文集(2001) pp.381-386.　共同（主担当）会議名：2001年度砥粒加工学会学術講演会開催場所：金沢大学，石川県野々市町
• GaAsウエハ加工欠陥の生成・低減のメカニズム、第63回応用物理学会学術講演会講演論文集(2002) p.1225.　共同（主担当）会議名：第63回応用物理学会学術講演会開催場所：新潟大学，新潟市
• Improvement of Pad Life in Mirror Polishing for GaAs Wafers、JSME International Conference on Leading Edge Manufacturing in 21 st Century(2003) pp.21-26.　共同（主担当） 開催場所：朱鷺メッセ，新潟市
• ポリシングパッドから見た研磨特性の劣化挙動の評価、2004年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集(2004) pp.405-406.　共同（副担当）会議名：2004年度精密工学会秋季大会　開催場所：島根大学，松江市
• GaAs半導体材料の鏡面研削機構の研究 (第4報)切削溝の間隔がクラック発生に及ぼす影響、2005年度精密工学会春季大会学術講演会論文集(2005) pp.857-858.　共同（副担当）会議名：2005年度精密工学会春季大会学術講演会 開催場所：慶応大学、横浜市
• GaAs半導体材料鏡面研削機構の研究(第5報)－圧子押込みにおけるき裂の発生メカニズム－、2005年度精密工学会春季大会学術講演会論文集(2005) pp.859-860.　共同（副担当）会議名：2005年度精密工学会春季大会学術講演会 開催場所：慶応大学，横浜市

2021年11月　知的ものづくりセミナー講師　テーマ：研磨を極めること

2022年7月　Science&Technology program for Kids　体験実験「秘密の絵が映る魔鏡をつくろう！」